文献类型:中文图书 浏览次数:2
  • 题名:集成电路制造技术:原理与工艺:3版
  • 责任者:田丽[等]编著
  • 出版社电子工业出版社
  • 出版年:2023.03
  • ISBN:978-7-121-45369-4
  • 定价:79.90
  • 载体形态项:10,322页 26cm
  • 个人责任者:田丽编著
  • 学科主题:集成电路工艺
  • 中图法分类号:TN405
  • 提要文摘附注:本书介绍硅基芯片制造流程中普遍采用的各单项工艺技术的原理、问题、分析方法、主要设备及其技术发展趋势,共6个单元14章。第一单元介绍硅衬底,主要介绍单晶硅的结构特点,单晶硅锭的拉制及硅片(包含体硅片和外延硅片)的制造工艺及相关理论。第二至五单元介绍硅基芯片制造基本单项工艺(氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试)的原理、方法、设备,以及所依托的技术基础及发展趋势。第六单元介绍集成电路制造工艺监控与生产实习实验。
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