| 000 |
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01002nam0 2200253 450 |
| 001 |
|
CAL 012019062864 |
| 005 |
|
20190514172911.6 |
| 010 |
__ |
■a978-7-5170-7439-7■dCNY57.00 |
| 099 |
__ |
■aCAL 012019062864 |
| 100 |
__ |
■a20190514d2019 em y0chiy0110 ea |
| 101 |
0_ |
■achi |
| 102 |
__ |
■aCN■b110000 |
| 105 |
__ |
■aak a 000yy |
| 106 |
__ |
■ar |
| 200 |
1_ |
■a磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能■Aci kong jian she zhi bei dan hua tong b+...... |
| 210 |
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■a北京■c中国水利水电出版社■d2019 |
| 215 |
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■a173页■c图■d24cm |
| 320 |
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■a有书目 (第97-173页) |
| 330 |
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■a磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术, 其制备工艺可调剂参数较多, 通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。+...... |
| 606 |
0_ |
■a铜■x金属薄膜■x氮化处理■x结构分析■Atong |
| 606 |
0_ |
■a铜■x金属薄膜■x性能分析■Atong |
| 690 |
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■aTF811■v5 |
| 701 |
_0 |
■a肖剑荣■4著■Axiao jian rong |
| 801 |
_0 |
■aCN■b北京亿兰 |
| 905 |
|
■aHNUU■b000483760■b000483761■b000483762■b000483763■b00048376+...... |
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